电子辐照效应分析
电子器件和相关的电介质、金属材料的电子辐照效应是材料、器件航天环境应用与电子束检测和加速器技术中的一个重要研究课题。本研究的主要工作是综合考虑电子散射和电荷输运效应，采用蒙特卡罗方法模拟电子束点照射、面照射和扫描照射等条件下电介质薄膜的电荷积累与局部等离子体效应、电场分布和能量沉积，阐明相关的动态特性及其机理；通过数值模拟和实验测量，研究表面形貌、局部电场、气体吸附与污染、表面势垒、电子入射条件等因素对二次电子发射特性的影响，分析电子束照射条件、材料特性参数和表面电子倍增效应对带电效应和扫描电镜二次电子成像的影响及其对策，探讨通过表面处理来降低二次电子产额的机理与相关的应用。    

特种需求的天线单元设计

特定的使用条件对相控阵天线单元提出了许多特殊的需求。例如安装空间的对天线的尺寸、重量等提出了苛刻的限制，大的功率容量对天线的耐击穿特性提出了更高的要求。本研究旨在综合考虑天线的性能、尺寸、重量、功率容量等方面的因素，减小天线的尺寸和重量，提高天线的功率容量和增益，降低天线驻波，同时考虑天线单元在阵列中的综合效率，开发和设计新型天线单元，使之适应于特殊的工作环境。

电子束微纳结构检测

电子束与物质相互作用后，会携带大量的内部结构信息，因而电子束是材料微观结构检测的重要手段。本研究旨在通过研究电子与物质相互作用过程的机理，分析电子状态变化与材料微观结构之间的关联关系，从而通过信息转换的来提取材料微观结构信息，具体应用包括：电子断层成像(或电子层析)术(Electron Tomography)和扫描电镜带电衬度分析等。